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Electron beam pumped non-c-plane UV emitters
其他题名Electron beam pumped non-c-plane UV emitters
WUNDERER, THOMAS; JOHNSON, NOBLE M.
2018-11-20
专利权人PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
公开日期2018-11-20
授权国家美国
专利类型授权发明
摘要An ultraviolet (UV) radiation emitting device includes an epitaxial heterostructure comprising an AlGaInN active region. The AlGaInN active region includes one or more quantum well structures with Al content greater than about 50% and having a non-c-plane crystallographic growth orientation. The AlGaInN active region is configured to generate UV radiation in response to excitation by an electron beam generated by an electron beam pump source.
其他摘要紫外(UV)辐射发射装置包括外延异质结构,该外延异质结构包括AlGaInN有源区。 AlGaInN有源区包括一个或多个量子阱结构,其Al含量大于约50%并且具有非c面晶体生长取向。 AlGaInN有源区被配置为响应于由电子束泵浦源产生的电子束的激发而产生UV辐射。
申请日期2017-05-19
专利号US10135227
专利状态授权
申请号US15/600569
公开(公告)号US10135227
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/32 | H01S5/343 | H01S5/04 | H01S5/125
专利代理人-
代理机构HOLLINGSWORTH DAVIS, LLC
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47858
专题半导体激光器专利数据库
作者单位PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
推荐引用方式
GB/T 7714
WUNDERER, THOMAS,JOHNSON, NOBLE M.. Electron beam pumped non-c-plane UV emitters. US10135227[P]. 2018-11-20.
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