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窒化物半導体発光素子およびその製造方法
其他题名窒化物半導体発光素子およびその製造方法
毛利 裕一; 近江 晋
2009-11-20
专利权人シャープ株式会社
公开日期2010-02-03
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【課題】 亀裂発生を防止しつつ、層厚バラツキの低減された半導体レーザ素子を製造することを主要な目的とする。 【解決手段】 半導体レーザウエハ101は、ストライプ状の溝103が形成された窒化物半導体基板102の上に、半導体レーザーを構成する窒化物半導体膜106が形成されてなる。溝103の少なくとも一部に、窒化物半導体膜106の層厚バラツキを抑制するための低温バッファ層105が設けられている。半導体レーザウエハ101にレーザ導波路107や電極を形成した後、紙面に平行な面に劈開して共振器端面を設け、紙面に垂直かつ分割線108に平行な面で分割することにより半導体レーザチップを得る。 【選択図】図1
其他摘要要解决的问题:提供一种半导体激光元件,其中层厚度的变化减小,同时防止裂缝。解决方案:半导体激光晶片101通过在其中形成条纹状凹槽103的氮化物半导体衬底102上形成构成半导体激光器的氮化物半导体膜106而构成。用于抑制氮化物半导体膜106的层厚度变化的低温缓冲层105至少设置在沟槽103的一部分上。在半导体激光晶片101上形成激光波导107和电极等之后通过切割平行于页面空间的表面来提供谐振器的端面,并且通过用垂直于页面空间的表面划分并进一步平行于分界线108来获得半导体激光器芯片。
申请日期2004-12-24
专利号JP4408802B2
专利状态授权
申请号JP2004374350
公开(公告)号JP4408802B2
IPC 分类号H01L21/205 | H01S5/00
专利代理人大前 要
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47571
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
毛利 裕一,近江 晋. 窒化物半導体発光素子およびその製造方法. JP4408802B2[P]. 2009-11-20.
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