基于集成光波导的激光照排机的成像扫描装置

OPT OpenIR > 半导体激光器专利数据库

	基于集成光波导的激光照排机的成像扫描装置
其他题名	基于集成光波导的激光照排机的成像扫描装置
	陆璇辉; 徐弼军
	2009-11-18
专利权人	浙江大学
公开日期	2009-11-18
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	本发明公开了一种基于集成列阵光波导的激光照排机的成像扫描装置。它依次放置有成像底片、聚焦透镜、列阵光波导器件、半导体激光器。所述的半导体激光器为32至128路半导体激光器，其工作波长范围在400纳米至1560纳米。列阵光波导器件具有基底，在基底上嵌有光波导。基底的材料为玻璃或硅，玻璃的拆射率为5-8，工作波长400纳米-1000纳米，硅的折射率为＞7，工作波长900纳米-1560纳米。光波导的材料为玻璃或氧化硅，它们的拆射率比基底材料的折射率高0.01%-1%。本发明体积小，控制简单，利用它的高速开关特性，不需要声光调制器装置，大大简化了光路结构和控制电路。可以同时有几十路甚至上百路光路。而且每路光相对独立调制，减少了光与光间的干扰，提高照排质量。
其他摘要	本发明公开了一种基于集成列阵光波导的激光照排机的成像扫描装置。它依次放置有成像底片、聚焦透镜、列阵光波导器件、半导体激光器。所述的半导体激光器为32至128路半导体激光器，其工作波长范围在400纳米至1560纳米。列阵光波导器件具有基底，在基底上嵌有光波导。基底的材料为玻璃或硅，玻璃的拆射率为5-8，工作波长400纳米-1000纳米，硅的折射率为＞7，工作波长900纳米-1560纳米。光波导的材料为玻璃或氧化硅，它们的拆射率比基底材料的折射率高0.01%-1%。本发明体积小，控制简单，利用它的高速开关特性，不需要声光调制器装置，大大简化了光路结构和控制电路。可以同时有几十路甚至上百路光路。而且每路光相对独立调制，减少了光与光间的干扰，提高照排质量。
主权项	一种基于集成列阵光波导的激光照排机的成像扫描装置，其特征在于，它依次放置有成像底片(1)、聚焦透镜(2)、列阵光波导器件(3)、半导体激光器(4)。
申请日期	2006-12-27
专利号	CN100560366C
专利状态	失效
申请号	CN200610155520.5
公开（公告）号	CN100560366C
IPC 分类号	B41B21/16 \| G02B6/10
专利代理人	张法高
代理机构	杭州求是专利事务所有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46610
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	浙江大学
推荐引用方式 GB/T 7714	陆璇辉,徐弼军. 基于集成光波导的激光照排机的成像扫描装置. CN100560366C[P]. 2009-11-18.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN100560366C.PDF（297KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文