レーザ照明装置、照明方法、半導体素子の製造方法、投写型表示装置、ならびに投写型表示装置を用いた画像表示方法

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	レーザ照明装置、照明方法、半導体素子の製造方法、投写型表示装置、ならびに投写型表示装置を用いた画像表示方法
其他题名	レーザ照明装置、照明方法、半導体素子の製造方法、投写型表示装置、ならびに投写型表示装置を用いた画像表示方法
	遠藤貴雄; 山本修平; 平野嘉仁; 玉川恭久
	2012-03-16
专利权人	三菱電機株式会社
公开日期	2012-06-06
授权国家	日本
专利类型	授权发明
摘要	高輝度で一様な照明光束の光強度分布を提供するレーザ照明装置を得る。半導体レーザ１と平板状に形成され導波路構造を有するレーザ媒質５及び非線形材料７を同平面上に配置し、レーザ媒質５の導波路モードで連続発振する複数の光源ユニット８と、当該複数の光源ユニット８からのレーザ発振光をカップリングする第一の光学系１２とを有する複数の光源モジュール２０と、第一の光ファイバー１３及び第二の光ファイバーアレイ１４を介して伝搬してきた複数の光源モジュール２０からのレーザ光をカップリングする第二の光学系１５と、第二の光学系１５からのレーザ光を均一化されたレーザ光に変換する均一化要素１６と、均一化要素１６を介して均一化されたレーザ光を被照面１８である基板１９に所定の倍率で投写させて照明光束１１とする第三の光学系１７とを備える。
其他摘要	获得用于提供高强度和均匀照明光通量的光强度分布的激光照明装置。该装置包括多个光源模块（20），每个光源模块包括：多个光源单元（8），每个光源单元（8）中的每一个都具有半导体激光器（1）和激光介质（5）和非线性材料（7）平面状的波导结构布置在同一平面上，用于在激光介质（5）的波导模式中进行连续振荡。以及用于耦合来自所述多个光源单元（8）的激光振荡光束的第一光学系统（12）。该装置还包括：第二光学系统（15），用于将从多个光源模块（20）传播的激光束通过第一光纤（13）和第二光纤阵列（14）耦合;用于将来自第二光学系统（15）的激光束转换成均匀的激光束的均匀化元件（16）;以及第三光学系统（17），用于将以通过所述均匀化元件（16）获得的均匀的激光束以预定的倍率投射到作为被照射面（18）的基板（19），以产生照明光通量（11）。
主权项	-
申请日期	2010-04-23
专利号	JP4948650B2
专利状态	授权
申请号	JP2010528078
公开（公告）号	JP4948650B2
IPC 分类号	H01S5/00 \| H01L21/268 \| H01L21/20 \| G03B21/00
专利代理人	曾我道治 \| 鈴木憲七 \| 梶並順 \| 大宅一宏 \| 上田俊一 \| 吉田潤一郎 \| 飯野智史
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45726
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	三菱電機株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	遠藤貴雄,山本修平,平野嘉仁,等. レーザ照明装置、照明方法、半導体素子の製造方法、投写型表示装置、ならびに投写型表示装置を用いた画像表示方法. JP4948650B2[P]. 2012-03-16.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP4948650B2.PDF（631KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文