气体的光谱分析装置

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	气体的光谱分析装置
其他题名	气体的光谱分析装置
	森下淳一; 石原良夫; 吴尚谦
	2003-07-16
专利权人	日本酸素株式会社
公开日期	2003-07-16
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中，设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值，使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值，使测定压力最佳化。
其他摘要	在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中，设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值，使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值，使测定压力最佳化。
主权项	一种气体的光谱分析装置，具备：波长可变型半导体激光器；对该半导体激光器进行频率调制的频率调制装置；使由上述半导体激光器振荡所产生的激光透过被测定气体的装置；测定透过了上述被测定气体的激光强度的装置；以及由该激光强度的测定值得到2次微分谱的装置，其特征在于具备：调制振幅运算装置，该装置由半导体激光器的特性对调制振幅的最佳值进行运算，控制上述频率调制装置，使得由上述半导体激光器振荡所产生的激光的调制振幅成为该最佳值；谱运算装置，该装置对上述2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算；以及压力调整装置，该装置根据该谱运算装置的运算结果来调整上述被测定气体的压力。
申请日期	1999-03-05
专利号	CN1114826C
专利状态	失效
申请号	CN99800275.5
公开（公告）号	CN1114826C
IPC 分类号	G01N21/39 \| G01J3/433 \| G01J34/33
专利代理人	杨凯 \| 叶恺东
代理机构	中国专利代理(香港)有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45530
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	日本酸素株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	森下淳一,石原良夫,吴尚谦. 气体的光谱分析装置. CN1114826C[P]. 2003-07-16.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN1114826C.PDF（898KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文