Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
半導体ブラッグ反射器および前記反射器の製作方法 | |
其他题名 | 半導体ブラッグ反射器および前記反射器の製作方法 |
レオン·ゴールドスタン; アンス·ビセシユール; アラン·ボデール; フランソワ·ブリユエ; ジヤン·ルイ·ジヤントナー; カトリーヌ·グラベール | |
2003-04-11 | |
专利权人 | アルカテル |
公开日期 | 2003-06-23 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 【課題】 屈折率差が大きく、反射率が高い半導体ブラッグ反射器およびその製作方法を提供する。 【解決手段】 本発明の半導体ブラッグ反射器は、III-V族材料の基板上の複数の積み重ねられた層を含み、積み重ねられた層のうちの一層がホログラフィ格子を形成する。格子を形成する層は、空隙部とIII-V族材料との交互の連続部を含む。このような反射器はレーザ装置で使用するのに特に適している。 |
其他摘要 | 要解决的问题:提供具有大折射率差和高反射率的半导体布拉格反射器及其制造方法。 本发明的半导体布拉格反射器包括在III-V族材料的基板上的多个堆叠层,其中一个堆叠层形成全息光栅。形成晶格的层包括空隙和III-V材料的交替连续。这种反射器特别适用于激光装置。 |
主权项 | - |
申请日期 | 1998-06-26 |
专利号 | JP3418553B2 |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP1998180312 |
公开(公告)号 | JP3418553B2 |
IPC 分类号 | G02B6/12 | H01L | H01S5/12 | H01S5/00 | G02B6/124 | G02B6/122 | G02B5/32 | H01L33/00 | G02B5/08 | G02B6/13 | G02B | H01S | G02B5/18 | H01S5/125 | H01S5/20 | G02B6/136 |
专利代理人 | 川口 義雄 (外1名) |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/44498 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | アルカテル |
推荐引用方式 GB/T 7714 | レオン·ゴールドスタン,アンス·ビセシユール,アラン·ボデール,等. 半導体ブラッグ反射器および前記反射器の製作方法. JP3418553B2[P]. 2003-04-11. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP3418553B2.PDF(46KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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