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多重量子井戸型半導体発光素子
其他题名多重量子井戸型半導体発光素子
玉村 好司; 野口 裕泰
2008-01-25
专利权人ソニー株式会社
公开日期2008-04-02
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【課題】 均一な発光をする発光特性に優れた半導体発光装置を提供する。 【解決手段】 n型GaAs基板1上にn型GaAsバッファ層2とn型AlGaInPクラッド層3とGaInP/AlGaInPMQW構造の活性層4とp型AlGaInPクラッド層5とp型GaInP層6とp型GaAsキャップ層7とを順次成長させ、p型AlGaInPクラッド層5とp型GaInP層6およびp型GaAsキャップ層7をメサ構造にし、n型GaAs電流ブロック層8をメサ構造の両側に成長させて積層する。活性層4はn型(Al0.7 Ga0.3 )0.5 In0.5 Pクラッド層3とp型(Al0.7 Ga0.3 )0.5 In0.5 Pクラッド層5と50Å厚の(Al0.35Ga0.65)0.5 In0.5 Pバリア層と40Å厚の中央に位置するGa0.52In0.48P量子井戸層と、46Å厚のクラッド層寄りのGa0.52In0.48P量子井戸層からなっている。
其他摘要种类代码:A1提供一种具有均匀发光和优异发光特性的半导体发光器件。 GaAs衬底1 2和n型AlGaInP包覆层3和由GaInP / AlGaInPMQW结构的有源层4和p型AlGaInP包覆层5和p型GaInP层6和p型GaAs上的n型的n型GaAs缓冲层顺序地生长帽层7,p型AlGaInP包覆层5和p型GaInP层6,并在台面结构的p型GaAs帽层7,层叠n型GaAs电流阻挡层8生长在台面结构的两侧到。有源层4为n型的(Al 0.7 GA 0.3 ) 0.5 在 0.5 p覆盖层3和p型(铝 0.7 GA 0.3 ) 0.5 在 0.5 p覆盖层5和50A厚(铝 0.35 GA 0.65 ) 0.5 在 0.5 GA 0.52位于在P势垒层的中心和40A厚和 0.48 点的量子阱层由在 0.48 点的量子阱层的包层更靠近 0.52 的46层Ga的厚度的。
主权项-
申请日期1997-08-06
专利号JP4069479B2
专利状态失效
申请号JP1997212230
公开(公告)号JP4069479B2
IPC 分类号H01S5/343 | H01L | H01S | H01L33/12 | H01S3/07 | H01L33/06 | H01S3/06 | H01L33/00 | H01L33/14 | H01L33/30 | H01S5/00
专利代理人角田 芳末 | 磯山 弘信
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/44394
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ソニー株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
玉村 好司,野口 裕泰. 多重量子井戸型半導体発光素子. JP4069479B2[P]. 2008-01-25.
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JP4069479B2.PDF(60KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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