Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Laser source with reduced linewidth | |
其他题名 | Laser source with reduced linewidth |
DUAN, GUANG-HUA; VAN DIJK, FREDERIC; KERVELLA, GAEL | |
2017-07-18 | |
专利权人 | THALES |
公开日期 | 2017-07-18 |
授权国家 | 美国 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | In the field of narrow linewidth laser sources and a laser device that comprises a laser source and a waveguide of determined refractive index with which it is coupled, a waveguide is single-mode and includes at least four reflectors in the form of trenches etched into the waveguide and irregularly distributed along the waveguide, the distance separating two neighbouring reflectors being above 1 μm, and the waveguide and the laser source have respective lengths such that the length of waveguide over which the reflectors are located is greater than the length of the laser source itself. |
其他摘要 | 在窄线宽激光源和包括激光源和与其耦合的确定折射率的波导的激光器件领域中,波导是单模的并且包括至少四个蚀刻到沟槽中的沟槽形式的反射器。波导和沿波导不规则地分布,两个相邻反射器之间的距离在1μm以上,并且波导和激光源具有各自的长度,使得反射器所在的波导的长度大于激光源的长度。本身。 |
授权日期 | 2017-07-18 |
申请日期 | 2014-12-12 |
专利号 | US9711940 |
专利状态 | 授权 |
申请号 | US14/569351 |
公开(公告)号 | US9711940 |
IPC 分类号 | H01S5/00 | H01S5/026 | H01S3/067 | H01S5/065 | H01S3/10 | H01S5/12 | H01S5/40 |
专利代理人 | - |
代理机构 | BAKER & HOSTETLER LLP |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42274 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | THALES |
推荐引用方式 GB/T 7714 | DUAN, GUANG-HUA,VAN DIJK, FREDERIC,KERVELLA, GAEL. Laser source with reduced linewidth. US9711940[P]. 2017-07-18. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
US9711940.PDF(695KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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