OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
Laser source with reduced linewidth
其他题名Laser source with reduced linewidth
DUAN, GUANG-HUA; VAN DIJK, FREDERIC; KERVELLA, GAEL
2017-07-18
专利权人THALES
公开日期2017-07-18
授权国家美国
专利类型授权发明
摘要In the field of narrow linewidth laser sources and a laser device that comprises a laser source and a waveguide of determined refractive index with which it is coupled, a waveguide is single-mode and includes at least four reflectors in the form of trenches etched into the waveguide and irregularly distributed along the waveguide, the distance separating two neighbouring reflectors being above 1 μm, and the waveguide and the laser source have respective lengths such that the length of waveguide over which the reflectors are located is greater than the length of the laser source itself.
其他摘要在窄线宽激光源和包括激光源和与其耦合的确定折射率的波导的激光器件领域中,波导是单模的并且包括至少四个蚀刻到沟槽中的沟槽形式的反射器。波导和沿波导不规则地分布,两个相邻反射器之间的距离在1μm以上,并且波导和激光源具有各自的长度,使得反射器所在的波导的长度大于激光源的长度。本身。
授权日期2017-07-18
申请日期2014-12-12
专利号US9711940
专利状态授权
申请号US14/569351
公开(公告)号US9711940
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/026 | H01S3/067 | H01S5/065 | H01S3/10 | H01S5/12 | H01S5/40
专利代理人-
代理机构BAKER & HOSTETLER LLP
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42274
专题半导体激光器专利数据库
作者单位THALES
推荐引用方式
GB/T 7714
DUAN, GUANG-HUA,VAN DIJK, FREDERIC,KERVELLA, GAEL. Laser source with reduced linewidth. US9711940[P]. 2017-07-18.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
US9711940.PDF(695KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[DUAN, GUANG-HUA]的文章
[VAN DIJK, FREDERIC]的文章
[KERVELLA, GAEL]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[DUAN, GUANG-HUA]的文章
[VAN DIJK, FREDERIC]的文章
[KERVELLA, GAEL]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[DUAN, GUANG-HUA]的文章
[VAN DIJK, FREDERIC]的文章
[KERVELLA, GAEL]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。