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波長可変半導体レーザ及びその製造方法
其他题名波長可変半導体レーザ及びその製造方法
山口 昌幸
1997-08-22
专利权人日本電気株式会社
公开日期1997-12-08
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【目的】 単一の制御電流で連続的な波長制御が可能な波長可変半導体レーザ及びその製造方法を提供する。 【構成】 活性領域、位相調整領域、DBR領域の3領域からなる分布反射型半導体レーザであって、位相調整領域のチューニング層はDBR領域のチューニング層に比べ層厚が厚いか、または波長組成が長波長に設定されており、位相調整領域及びDBR領域に均一に電流注入することで連続的な波長制御を実現する。チューニング層は選択MOVPE法により成長することで、位相調整領域とDBR領域とで厚さ及び波長組成を変える。
其他摘要[目的]提供一种能够通过单一控制电流进行连续波长控制的可调谐半导体激光器及其制造方法。 一种分布式布拉格反射器半导体激光器,包括三个区域:有源区域,相位调整区域和DBR区域,其中相位调整区域中的调谐层比DBR区域中的调谐层厚,或者具有波长成分设定为长波长,通过将电流均匀地注入相位调整区域和DBR区域来实现连续波长控制。通过选择性MOVPE方法生长调谐层,以改变相位控制区域和DBR区域之间的厚度和波长组成。
授权日期1997-08-22
申请日期1994-07-15
专利号JP2687884B2
专利状态失效
申请号JP1994163515
公开(公告)号JP2687884B2
IPC 分类号H01S5/0625 | H01S | H01S5/00 | H01S5/20 | H01S3/18
专利代理人京本 直樹 (外2名)
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42140
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
山口 昌幸. 波長可変半導体レーザ及びその製造方法. JP2687884B2[P]. 1997-08-22.
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