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分布帰還型半導体レーザ装置
其他题名分布帰還型半導体レーザ装置
高橋 幸司; 厚主 文弘; 種谷 元隆
2005-09-02
专利权人シャープ株式会社
公开日期2005-11-09
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【目的】高い素子作製歩留り、良好な単一縦モード特性、低電流動作、素子特性の安定を実現する短波長の利得結合分布帰還型半導体レーザを提供する。 【構成】デューティ0.5付近の一次回折格子を有する周期的吸収層を有し、利得結合が十分に生じつつ吸収損失が十分に小さくなるように周期的吸収層の厚さが最適に設定されている。活性層と吸収層との禁制帯幅の差が一定値よりも大きい組み合わせとする。
其他摘要本发明的一个目的是提供一种短波长增益耦合的分布式反馈半导体激光器,它实现了高器件制造产量,良好的单纵模特性,低电流操作和稳定的器件特性。 最佳地设定周期性吸收层的厚度,使得在充分产生增益耦合的同时充分减小吸收损耗。 。有源层和吸收层之间的禁带宽度的差异的组合大于预定值。
授权日期2005-09-02
申请日期1995-03-06
专利号JP3714984B2
专利状态失效
申请号JP1995045365
公开(公告)号JP3714984B2
IPC 分类号H01S | H01S5/12 | H01S5/00
专利代理人大前 要 | 小池 隆彌
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41995
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
高橋 幸司,厚主 文弘,種谷 元隆. 分布帰還型半導体レーザ装置. JP3714984B2[P]. 2005-09-02.
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JP3714984B2.PDF(154KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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