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用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统
其他题名用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统
王春; 张伯阳; 王剑磊
2018-07-10
专利权人张家港市顶峰激光科技有限公司
公开日期2018-07-10
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型公开了一种用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统,属于激光技术领域,其特点是将4路激光叠阵在空间上通过周期性空间耦合镜有效叠加成两组合并起来输出高功率线偏振光以方便加入反馈光隔离系统,激光输出光斑大小和横截面形状可调,可以满足激光熔覆应用需求。
其他摘要本实用新型公开了一种用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统,属于激光技术领域,其特点是将4路激光叠阵在空间上通过周期性空间耦合镜有效叠加成两组合并起来输出高功率线偏振光以方便加入反馈光隔离系统,激光输出光斑大小和横截面形状可调,可以满足激光熔覆应用需求。
授权日期2018-07-10
申请日期2017-09-18
专利号CN207602982U
专利状态授权
申请号CN201721194615.8
公开(公告)号CN207602982U
IPC 分类号H01S5/40 | H01S5/062 | C23C24/10
专利代理人黄冠华
代理机构北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41059
专题半导体激光器专利数据库
作者单位张家港市顶峰激光科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王春,张伯阳,王剑磊. 用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统. CN207602982U[P]. 2018-07-10.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
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