一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头

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	一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头
其他题名	一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头
	雷正龙; 张新瑞; 孙浩然; 李鹏
	2017-07-28
专利权人	哈尔滨工业大学
公开日期	2017-07-28
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头，它涉及一种送粉头。本发明的送粉头包括定位指示灯、粉末输入器、气体输入接头、粉末汇聚腔、转换通道、粉末输送通道、矩形喷嘴、圆盘和送粉管。本发明的技术方案，可以在很大程度上面消除粉末不均匀的现象，即采用其他喷嘴容易出现的粉末中间多两边少的现象，能够使得粉末均匀得从送粉口输出，实现均匀送粉的目的，并且经过粉末输送通道及喷嘴的约束可以实现矩形粉斑的输出。从而使送出的金属粉末的连续性、均匀性、挺度等都得到保证，并且可以与半导体激光器的矩形光斑相匹配。
其他摘要	一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头，它涉及一种送粉头。本发明的送粉头包括定位指示灯、粉末输入器、气体输入接头、粉末汇聚腔、转换通道、粉末输送通道、矩形喷嘴、圆盘和送粉管。本发明的技术方案，可以在很大程度上面消除粉末不均匀的现象，即采用其他喷嘴容易出现的粉末中间多两边少的现象，能够使得粉末均匀得从送粉口输出，实现均匀送粉的目的，并且经过粉末输送通道及喷嘴的约束可以实现矩形粉斑的输出。从而使送出的金属粉末的连续性、均匀性、挺度等都得到保证，并且可以与半导体激光器的矩形光斑相匹配。
授权日期	2017-07-28
申请日期	2015-12-30
专利号	CN105522150B
专利状态	授权
申请号	CN201511029342.7
公开（公告）号	CN105522150B
IPC 分类号	B22F3/105 \| C23C24/10 \| B33Y30/00
专利代理人	侯静
代理机构	哈尔滨市松花江专利商标事务所
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40186
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	哈尔滨工业大学
推荐引用方式 GB/T 7714	雷正龙,张新瑞,孙浩然,等. 一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头. CN105522150B[P]. 2017-07-28.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN105522150B.PDF（174KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文