Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头 | |
其他题名 | 一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头 |
雷正龙; 张新瑞; 孙浩然; 李鹏 | |
2017-07-28 | |
专利权人 | 哈尔滨工业大学 |
公开日期 | 2017-07-28 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头,它涉及一种送粉头。本发明的送粉头包括定位指示灯、粉末输入器、气体输入接头、粉末汇聚腔、转换通道、粉末输送通道、矩形喷嘴、圆盘和送粉管。本发明的技术方案,可以在很大程度上面消除粉末不均匀的现象,即采用其他喷嘴容易出现的粉末中间多两边少的现象,能够使得粉末均匀得从送粉口输出,实现均匀送粉的目的,并且经过粉末输送通道及喷嘴的约束可以实现矩形粉斑的输出。从而使送出的金属粉末的连续性、均匀性、挺度等都得到保证,并且可以与半导体激光器的矩形光斑相匹配。 |
其他摘要 | 一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头,它涉及一种送粉头。本发明的送粉头包括定位指示灯、粉末输入器、气体输入接头、粉末汇聚腔、转换通道、粉末输送通道、矩形喷嘴、圆盘和送粉管。本发明的技术方案,可以在很大程度上面消除粉末不均匀的现象,即采用其他喷嘴容易出现的粉末中间多两边少的现象,能够使得粉末均匀得从送粉口输出,实现均匀送粉的目的,并且经过粉末输送通道及喷嘴的约束可以实现矩形粉斑的输出。从而使送出的金属粉末的连续性、均匀性、挺度等都得到保证,并且可以与半导体激光器的矩形光斑相匹配。 |
授权日期 | 2017-07-28 |
申请日期 | 2015-12-30 |
专利号 | CN105522150B |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN201511029342.7 |
公开(公告)号 | CN105522150B |
IPC 分类号 | B22F3/105 | C23C24/10 | B33Y30/00 |
专利代理人 | 侯静 |
代理机构 | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40186 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 哈尔滨工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 雷正龙,张新瑞,孙浩然,等. 一种适用于半导体激光增材制造或熔敷的均匀送粉头. CN105522150B[P]. 2017-07-28. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN105522150B.PDF(174KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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