大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法

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	大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法
其他题名	大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法
	徐文东; 阮昊; 苏雅茹
	2017-03-15
专利权人	中国科学院上海光学精密机械研究所
公开日期	2017-03-15
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	一种用于涂布光刻胶的基板上制备衍射光栅的大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法，装置由激光器、电子快门、第一半波片、偏振分光镜、第二半波片、第一反射镜、第二反射镜、第一空间滤波器、第一矩形光阑、第一离轴抛物面大反射镜、压电陶瓷、第三反射镜、第二空间滤波器、第二矩形光阑、第二离轴抛物面大反射镜、基板、小参考光栅、接受屏、CCD和计算机组成，本发明采用单频稳频的半导体激光器或激光二极管泵浦固体激光器能提供更高的连续功率或平均功率，使曝光时间大为减少，降低系统对环境稳定性的要求，基底可以使用膨胀系数较小或轻质的材料，具有成像质量高、无像差、制备衍射光栅的口径大、使用方便、价格便宜等优点。
其他摘要	一种用于涂布光刻胶的基板上制备衍射光栅的大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法，装置由激光器、电子快门、第一半波片、偏振分光镜、第二半波片、第一反射镜、第二反射镜、第一空间滤波器、第一矩形光阑、第一离轴抛物面大反射镜、压电陶瓷、第三反射镜、第二空间滤波器、第二矩形光阑、第二离轴抛物面大反射镜、基板、小参考光栅、接受屏、CCD和计算机组成，本发明采用单频稳频的半导体激光器或激光二极管泵浦固体激光器能提供更高的连续功率或平均功率，使曝光时间大为减少，降低系统对环境稳定性的要求，基底可以使用膨胀系数较小或轻质的材料，具有成像质量高、无像差、制备衍射光栅的口径大、使用方便、价格便宜等优点。
授权日期	2017-03-15
申请日期	2015-03-25
专利号	CN104730868B
专利状态	授权
申请号	CN201510133314.3
公开（公告）号	CN104730868B
IPC 分类号	G03F7/20 \| G02B5/18
专利代理人	张泽纯 \| 张宁展
代理机构	上海新天专利代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39911
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	徐文东,阮昊,苏雅茹. 大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法. CN104730868B[P]. 2017-03-15.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN104730868B.PDF（245KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文