用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法

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	用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法
其他题名	用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法
	李耀耀; 李爱珍; 张永刚; 丁惠凤; 李好斯白音; 曹远迎
	2014-10-22
专利权人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所
公开日期	2014-10-22
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	本发明涉及一种用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法，包括以下步骤：通过两个高反镜调整全息曝光系统的入射激光的光路，使入射激光进入全息曝光系统；通过一个反射镜确定入射激光器在曝光平台另一侧的入射点和入射角度，利用反射镜确定的入射点和入射角度作为参考，调整空间滤波器和准直透镜，得到一束扩束的平行光；调整置片台，通过置片台的安装，使扩束后的平行光分为两束相干、平行的光束，两光束在置片台上通过干涉形成明暗相间的条纹。本发明能够减小中红外单模激光器制备工艺的复杂性。
其他摘要	本发明涉及一种用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法，包括以下步骤：通过两个高反镜调整全息曝光系统的入射激光的光路，使入射激光进入全息曝光系统；通过一个反射镜确定入射激光器在曝光平台另一侧的入射点和入射角度，利用反射镜确定的入射点和入射角度作为参考，调整空间滤波器和准直透镜，得到一束扩束的平行光；调整置片台，通过置片台的安装，使扩束后的平行光分为两束相干、平行的光束，两光束在置片台上通过干涉形成明暗相间的条纹。本发明能够减小中红外单模激光器制备工艺的复杂性。
授权日期	2014-10-22
申请日期	2012-02-28
专利号	CN102540475B
专利状态	失效
申请号	CN201210049218.7
公开（公告）号	CN102540475B
IPC 分类号	G02B27/09
专利代理人	宋缨 \| 孙健
代理机构	上海泰能知识产权代理事务所
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39365
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	中国科学院上海微系统与信息技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	李耀耀,李爱珍,张永刚,等. 用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法. CN102540475B[P]. 2014-10-22.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN102540475B.PDF（938KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文