ライティング装置

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	ライティング装置
其他题名	ライティング装置
	ペカルスキー,パヴェル; グローネンボーン,シュテファン
	2017-04-07
专利权人	コーニンクレッカフィリップスエヌヴェ
公开日期	2017-04-26
授权国家	日本
专利类型	授权发明
摘要	当該発明は、交差平面において交差するエッジ(5)を備えた放出の円錐(4)を放出する光源(3)のアレイ(2)及びファーフィールドにおける強度分布を均質化するためのレンズユニット(7)を具備するライティング装置(1)に関係する。光源のアレイ及びレンズユニットは、i)放出の円錐がレンズユニットを横切ると共にii)光源のアレイ及びレンズユニットの間における距離(s)が20パーセント又はより少ない分だけa)レンズユニットの焦点距離並びにb)交差平面及び光源(3)のアレイ(2)の間における距離の和又はそれらの間における差からはずれるように配置される。この構成は、ファーフィールドにおける強度分布が実質的に均質なものであるようにファーフィールドにおける放出の円錐の混合に至る。
其他摘要	本发明涉及一种照明设备（1），其包括发射具有在相交平面中相交的边缘（5）的发射锥（4）的光源（3）的阵列（2）和用于使强度均匀化的透镜单元在远场分配。光源阵列和透镜单元被布置为使得：i）发射锥穿过透镜单元，以及ii）光源阵列和透镜单元之间的距离（s）偏离该总和或差值a）透镜单元的焦距f和b）光源（3）的相交平面和阵列（2）之间的距离t小于或等于20％。这种配置导致远场中的发射锥的混合，使得远场中的强度分布基本均匀。
申请日期	2013-02-22
专利号	JP6122036B2
专利状态	授权
申请号	JP2014558254
公开（公告）号	JP6122036B2
IPC 分类号	G03B15/02 \| F21L4/00 \| F21V23/00 \| F21S2/00 \| H01S5/42 \| G03B15/05 \| G08G1/04
专利代理人	伊東忠重 \| 伊東忠彦 \| 大貫進介
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34160
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	コーニンクレッカフィリップスエヌヴェ
推荐引用方式 GB/T 7714	ペカルスキー,パヴェル,グローネンボーン,シュテファン. ライティング装置. JP6122036B2[P]. 2017-04-07.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP6122036B2.PDF（149KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文