Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
表面改質方法 | |
其他题名 | 表面改質方法 |
宇野 義幸; 岡本 康寛; 毛利 徹臣; 田中 裕士; 角井 素貴; 仲前 一男 | |
2014-05-30 | |
专利权人 | 住友電気工業株式会社 |
公开日期 | 2014-07-16 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 【課題】より効果的に対象物の表面改質を行うことができる方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る表面改質方法において好適に用いられるパルスレーザ装置1では、半導体レーザ光源(11)および変調部(12)が種光源を構成している。この種光源から出力される種光が光増幅用ファイバ(21〜23)により増幅される。その増幅光がパルスレーザ装置(1)の出力となる。パルスレーザ装置(1)は、出力されるパルスレーザ光のパルス幅および繰り返し周波数が互いに独立に可変である。パルスレーザ装置(1)から出力されるパルスレーザ光のパルス幅は10ns以下であるのが好適であり、その繰り返し周波数が50kHz以上であるのも好適である。 【選択図】図1 |
其他摘要 | 要解决的问题:提供一种能够更有效地改造物体表面的方法。 在适用于根据本发明的表面改性方法的脉冲激光装置1中,半导体激光光源(11)和调制部分(12)构成种子光源。从这种光源输出的种子光被光学放大光纤(21至23)放大。放大的光成为脉冲激光装置(1)的输出。在脉冲激光装置(1)中,输出脉冲激光的脉冲宽度和重复频率可相互独立地变化。从脉冲激光装置(1)输出的脉冲激光的脉冲宽度优选为10ns或更小,并且其重复频率优选为50kHz或更大。 点域1 |
申请日期 | 2009-02-24 |
专利号 | JP5552242B2 |
专利状态 | 授权 |
申请号 | JP2009041043 |
公开(公告)号 | JP5552242B2 |
IPC 分类号 | B23K26/12 | B23K26/352 | H01S5/00 | B23K26/14 | B23K26/00 |
专利代理人 | 長谷川 芳樹 | 寺崎 史朗 | 黒木 義樹 | 近藤 伊知良 |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34032 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 住友電気工業株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 宇野 義幸,岡本 康寛,毛利 徹臣,等. 表面改質方法. JP5552242B2[P]. 2014-05-30. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP5552242B2.PDF(459KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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