Multi-beam exposure apparatus

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	Multi-beam exposure apparatus
其他题名	Multi-beam exposure apparatus
	SUNAGAWA, HIROSHI
	2002-10-15
专利权人	FUJIFILM CORPORATION
公开日期	2002-10-15
授权国家	美国
专利类型	授权发明
摘要	The multi-beam exposure apparatus includes a light source for emitting a specified number of multi-beams spaced apart in a direction of auxiliary scanning, a deflecting unit for deflecting the specified number of multi-beams collectively on main scanning lines by a specified number of deflections such that a space between adjacent ones of the specified number of multi-beams is exposed and a main scanning unit for performing main scan of a recording material as it is exposed with the specified number of multi-beams, wherein the space between adjacent ones of the specified number of multi-beams is an integral multiple of (the specified number of deflections +1) multiplied by a pitch of pixels in the direction of auxiliary scanning.
其他摘要	多光束曝光设备包括：光源，用于发射在辅助扫描方向上间隔开的指定数量的多光束;偏转单元，用于在指定数量的主扫描线上集中地偏转指定数量的多光束。偏转使得指定数量的多个光束中的相邻多个光束之间的空间被曝光，并且主扫描单元用于在用指定数量的多光束曝光时对记录材料进行主扫描，其中相邻的多个光束之间的空间指定数量的多光束的数量是（指定的偏转数+1）的整数倍乘以辅助扫描方向上的像素间距。
申请日期	2001-04-23
专利号	US6466359
专利状态	失效
申请号	US09/839535
公开（公告）号	US6466359
IPC 分类号	B41J2/465 \| B41J2/435 \| B41J2/45 \| B41J2/32 \| B41J2/44 \| G02B26/10 \| G02F1/11 \| G02F1/33 \| G03B27/32 \| G03F7/20 \| G03F7/24 \| H01S5/40 \| H04N1/113 \| G02F1/29
专利代理人	-
代理机构	SUGHRUE MION,PLLC
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33728
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	FUJIFILM CORPORATION
推荐引用方式 GB/T 7714	SUNAGAWA, HIROSHI. Multi-beam exposure apparatus. US6466359[P]. 2002-10-15.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
US6466359.PDF（314KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文