Musterprojektionsvorrichtung und Verfahren zur Abmessungsberechnung

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	Musterprojektionsvorrichtung und Verfahren zur Abmessungsberechnung
其他题名	Musterprojektionsvorrichtung und Verfahren zur Abmessungsberechnung
	HSIAO SHANG-WUN; KUO CHUNG-FENG; TU HUNG-MIN
	2019-04-25
专利权人	NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
公开日期	2019-04-25
授权国家	德国
专利类型	授权发明
摘要	Musterprojektionsvorrichtung (100, 100A, 100B) zur Verwendung mit einem Endoskop (202), umfassend mindestens eine Lichtquelle (102,102'), die zum Aussenden eines Lichtstrahls (L, L') vorgesehen ist, um an einer Beobachtungsoberfläche (S) ein Muster (P) zu erzeugen, wobeidas Muster (P) an der Beobachtungsoberfläche (S) in seiner Abmessung unabhängig von einem Abstand (D, G) zwischen Lichtquelle (102, 102')und Beobachtungsoberfläche (S) konstant bleibt, umfassend ferner einen Strahlteiler (108), der sich im Weg des von der Lichtquelle (102, 102')ausgehenden Lichtstrahls (L, L') befindet und der dazu vorgesehen ist, den Lichtstrahl (L, L') in einen ersten und einen zweiten Teilstrahl (L, L)aufzuteilen, wobei sich der erste Teilstrahl (L) parallel zum zweiten Teilstrahl (L) ausbreitet, wobei der Strahlteiler (108) so angeordnet ist, dass dererste Teilstrahl (L) durch eine Reflektion des Lichtstrahls (L) an einer ersten Oberfläche des Strahlteilers (108) erzeugt wird, und dass eine Erzeugungdes zweiten Teilstrahls (L) eine Reflektion des Lichtstrahls (L, L') an einer zweiten Oberfläche des Strahlteilers (108) aufweist, wobei die zweiteOberfläche der ersten Oberfläche gegenüberliegt.
其他摘要	图案投影装置（100，100A，100B），用于与内窥镜（202），包括至少一个光源（102,102“）使用设置用于发射光束（L，L”在观察面（S）提供的），图案（ P）产生，其中，在其尺寸的观察面（S）上的图案（P）（不管光源（102，102“）和观测表面（S）之间的距离d，G）的保持恒定，还包括一个分束器（108 ）位于的路径（从光源102，102“出射）的光束（L，L”），并且被提供给所述光束（L，L“）划分为第一和第二分束（L，L分），其中，第一部分光束传播（L）平行于第二部分光束（L），其中，所述分束器（108）被布置成使得所述第一部分光束（L）通过所述光束（L）的分束器的第一表面上的反射生成（108）矿石eugungdes第二部分光束（L）在分束器（108）的第二表面上具有光束（L，L'）的反射，其中第一表面的第二表面相对。
申请日期	2011-08-31
专利号	DE102011053129B4
专利状态	授权
申请号	DE102011053129
公开（公告）号	DE102011053129B4
IPC 分类号	G02B27/18 \| A61B1/00 \| A61B1/267 \| G01B11/02 \| G02B23/24
专利代理人	-
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32938
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
推荐引用方式 GB/T 7714	HSIAO SHANG-WUN,KUO CHUNG-FENG,TU HUNG-MIN. Musterprojektionsvorrichtung und Verfahren zur Abmessungsberechnung. DE102011053129B4[P]. 2019-04-25.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
DE102011053129B4.PDF（1048KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文