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光电经纬仪光学系统变形测试系统
赵怀学; 周艳; 田留德; 赵建科; 薛勋; 潘亮; 胡丹丹; 刘艺宁; 张洁; 曹昆; 李坤; 赛建刚; 昌明
2019-05-31
专利权人中国科学院西安光学精密机械研究所
公开日期2019-05-31
授权国家中国
专利类型实用新型
产权排序1
摘要本实用新型涉及光学系统变形量测试领域,具体涉及一种光电经纬仪光学系统变形测试系统。系统仅由目标模拟器及夹持机构组成,测试时,将目标模拟器通过夹持机构固定在待测光电经纬仪上,每调整一次光电经纬仪的俯仰角度,记录一次目标脱靶量,最后通过最小二乘法拟合光电经纬仪指向精度系统误差修正曲线,旨在实现光电经纬仪在不同俯仰角下,光学系统方位和俯仰方向变形量的连续采样和高精度测量,提高光电经纬仪指向精度。
主权项一种光电经纬仪光学系统变形测试系统,其特征在于:包括目标模拟器(1)及夹持机构(2),所述夹持机构(2)用于将目标模拟器(1)固定在待测光电经纬仪(3)上,并使得目标模拟器(1)位于待测光电经纬仪(3)的视场范围内。
授权日期2019-05-31
申请日期2018-09-20
专利号CN201821544393.2
语种中文
专利状态已授权
申请号CN201821544393.2
公开(公告)号CN208921103U
IPC 分类号G01C1/02 ; G01C25/00
专利代理人汪海艳
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/31663
专题检测技术研究中心
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵怀学,周艳,田留德,等. 光电经纬仪光学系统变形测试系统. CN201821544393.2[P]. 2019-05-31.
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