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一种相位掩膜可调的动态波前编码成像系统
其他题名一种相位掩膜可调的动态波前编码成像系统
赵惠; 魏静萱; 樊学武; 夏晶晶; 张凌
2018-11-13
专利权人中国科学院西安光学精密机械研究所 | 西安电子科技大学
公开日期2018-11-13
授权国家中国
专利类型发明专利
产权排序1
摘要本发明属于光学技术领域,具体涉及一种相位掩膜可调的动态波前编码成像系统。该系统可根据实际需要在常规无掩膜成像与多种掩膜成像之间进行切换,除了实现灵活可控的景深拓展范围与复原图像品质之外,当应用于长波红外成像时还可以利用方向性滤波提升不同类型目标的识别能力。该系统包括沿着光轴传输方向依次设置的成像镜头、复合相位掩膜板、图像探测器以及图像处理单元;其特征在于:所述复合相位掩膜板由两个广义三次方型相位组件沿光轴传输方向叠加而成,并且两个广义三次方型相位组件通过各自独立的旋转来产生不同的相位调制强度。
主权项一种相位掩膜可调的动态波前编码成像系统,包括沿着光轴传输方向依次设置的成像镜头、复合相位掩膜板、图像探测器以及图像处理单元; 其特征在于: 所述复合相位掩膜板由两个广义三次方型相位组件沿着光轴传输方向叠加而成;两个广义三次方型相位组件均可绕光轴独立旋转且两个广义三次方型相位组件的旋转方向与旋转角度大小均可以不同; 复合相位掩膜板对应的二维相位掩膜函数的形式为: Q(x,y)=f1(x,y)+f2(x,y); 其中, 式中,α1、β1和α2、β2是控制两个广义三次方型相位组件相位分布函数的参数,θ1和θ2分别代表广义三次方型相位组件f1和广义三次方型相位组件f2各自产生的旋转角度,x,y为孔径平面归一化坐标;x、y的取值范围为[-1,1],θ1和θ2的取值范围均为[0,360°]; 在α1、β1和α2、β2选定的前提下,两个广义三次方型相位组件所产生的不同的旋转角度组合[θ1,θ2]将使相位掩膜函数Q呈现出常规无掩膜、经典广义三次方掩膜以及非对称广义三次方掩膜三种掩膜形式,从而在常规无掩膜成像、经典广义三次方掩膜成像以及非对称广义三次方掩膜成像之间切换。
授权日期2018-11-13
申请日期2018-05-31
专利号CN201810553485.5
语种中文
专利状态申请中
申请号CN201810553485.5
PCT属性
公开(公告)号CN108803015A
IPC 分类号G02B27/00 ; G02B26/06
专利代理人唐沛
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/30941
专题其它单位_其它部门
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
第一作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵惠,魏静萱,樊学武,等. 一种相位掩膜可调的动态波前编码成像系统. CN201810553485.5[P]. 2018-11-13.
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