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一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶的制备方法
王兴; 罗端; 田进寿
2016-03-31
公开日期2016-08-17
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶样品的制备方法,包括以下步骤:1)将超薄单晶置于洁净的衬底上;其中,超薄单晶的厚度小于100nm;2)将新载网倒置于超薄单晶表面,形成新载网‑超薄单晶‑衬底结构;3)在新载网‑超薄单晶‑衬底结构上滴入异丙醇溶液,使异丙醇溶液浸入新载网与超薄单晶的分界面并自然蒸发干;4)将经过步骤3)的新载网‑超薄单晶‑衬底结构放入用于溶解衬底的溶液中,使衬底溶解,超薄单晶与衬底脱离,附着于新载网上,形成新载网‑超薄单晶结构;5)将经过步骤4)形成的新载网‑超薄单晶结构进行多次去离子水冲洗,后自然晾干。本发明具有操作简单、成本低和可实现快速制样的优点。
主权项1)将超薄单晶置于洁净的衬底上;其中,超薄单晶的厚度小于 100nm;
授权日期2016-09-14
专利号CN201610200723.5
语种中文
专利状态审查中-实审
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/29687
专题精密物理量测量实验室
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王兴,罗端,田进寿. 一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶的制备方法. CN201610200723.5[P]. 2016-03-31.
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