OPT OpenIR  > 精密物理量测量实验室
一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶的制备方法
王兴; 罗端; 田进寿
2016-03-31
Date Available2016-08-17
Country中国
Subtype发明
Abstract本发明公开了一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶样品的制备方法,包括以下步骤:1)将超薄单晶置于洁净的衬底上;其中,超薄单晶的厚度小于100nm;2)将新载网倒置于超薄单晶表面,形成新载网‑超薄单晶‑衬底结构;3)在新载网‑超薄单晶‑衬底结构上滴入异丙醇溶液,使异丙醇溶液浸入新载网与超薄单晶的分界面并自然蒸发干;4)将经过步骤3)的新载网‑超薄单晶‑衬底结构放入用于溶解衬底的溶液中,使衬底溶解,超薄单晶与衬底脱离,附着于新载网上,形成新载网‑超薄单晶结构;5)将经过步骤4)形成的新载网‑超薄单晶结构进行多次去离子水冲洗,后自然晾干。本发明具有操作简单、成本低和可实现快速制样的优点。
Claim1)将超薄单晶置于洁净的衬底上;其中,超薄单晶的厚度小于 100nm;
Copyright Date2016-09-14
Patent NumberCN201610200723.5
Language中文
Status审查中-实审
Document Type专利
Identifierhttp://ir.opt.ac.cn/handle/181661/29687
Collection精密物理量测量实验室
Affiliation中国科学院西安光学精密机械研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
王兴,罗端,田进寿. 一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶的制备方法. CN201610200723.5[P]. 2016-03-31.
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