| 高光谱成像仪的杂散光分析 |
| 王美钦; 王忠厚; 白加光
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| 作者部门 | 光谱成像技术实验室
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| 2012-06
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| 发表期刊 | 红外与激光工程
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| ISSN | 1007-2276
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| 卷号 | 41期号:6页码:1532-1537 |
| 产权排序 | 1
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| 摘要 | 杂光分析是保证高光谱成像仪成像质量的关键技术之一。详细分析了高光谱成像仪光学系统的杂散光,设计了R-C前置镜的遮光罩和挡光环,并用Tracepro软件对高光谱成像仪光学系统进行了光机建模,分析了系统的一次、二次散射面,根据重要杂散光路径设置重点采用,计算出0.5°~40°不同离轴角度下的点源透射比值,从而得到地球表面反射光在像面产生的照度为5.5×10-3W/m2,小于中心视场光线在像面照度的3.5%,满足系统抑制杂散光的要求。 |
| 收录类别 | EI
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/20451
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| 专题 | 光谱成像技术研究室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王美钦,王忠厚,白加光. 高光谱成像仪的杂散光分析[J]. 红外与激光工程,2012,41(6):1532-1537.
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| APA |
王美钦,王忠厚,&白加光.(2012).高光谱成像仪的杂散光分析.红外与激光工程,41(6),1532-1537.
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| MLA |
王美钦,et al."高光谱成像仪的杂散光分析".红外与激光工程 41.6(2012):1532-1537.
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