L-MBE法生长ZnO薄膜的退火研究 | |
其他题名 | Annealing effect on ZnO thin films grown by laser-MBE |
Yang Xiaodong(杨晓东); Zhang Jingwen(张景文); Wang Dong(王东); Hou Xun(侯洵) | |
作者部门 | 瞬态光学国家重点实验室 |
2008 | |
发表期刊 | 光子学报
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ISSN | 1004-4213 |
卷号 | 37期号:5页码:996-1000 |
学科领域 | 物理科学和化学 |
收录类别 | EI ; CSCD |
语种 | 中文 |
引用统计 | |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/10937 |
专题 | 瞬态光学研究室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Yang Xiaodong(杨晓东),Zhang Jingwen(张景文),Wang Dong(王东),等. L-MBE法生长ZnO薄膜的退火研究[J]. 光子学报,2008,37(5):996-1000. |
APA | Yang Xiaodong,Zhang Jingwen,Wang Dong,&Hou Xun.(2008).L-MBE法生长ZnO薄膜的退火研究.光子学报,37(5),996-1000. |
MLA | Yang Xiaodong,et al."L-MBE法生长ZnO薄膜的退火研究".光子学报 37.5(2008):996-1000. |
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文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
L_MBE法生长ZnO薄膜的退火研究.p(579KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
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