中文版 | English

在结果中检索

OPT OpenIR
（本次检索基于用户作品认领结果）

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助

限定条件        
已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
纳米压印用二次压印模板 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201331670Y, 申请日期: 2009-10-21, 公开日期: 2009-10-21
发明人:  刘文;  王定理;  周宁;  赵彦立;  徐智谋
Adobe PDF(401Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2019/12/26
纳米压印用二次压印模板 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201331670Y, 申请日期: 2009-10-21, 公开日期: 2009-10-21
发明人:  刘文;  王定理;  周宁;  赵彦立;  徐智谋
Adobe PDF(401Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2019/12/26
纳米压印用二次压印模板的制作方法及其二次压印模板 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN101446759A, 申请日期: 2009-06-03, 公开日期: 2009-06-03
发明人:  刘文;  王定理;  周宁;  赵彦立;  徐智谋
Adobe PDF(524Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：49/0  |  提交时间：2019/12/31