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一种硅光隔离器 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN104749706B, 申请日期: 2017-11-17, 公开日期: 2017-11-17
发明人:  孙敏;  朱以胜;  赵彦立
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纳米压印用二次压印模板 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201331670Y, 申请日期: 2009-10-21, 公开日期: 2009-10-21
发明人:  刘文;  王定理;  周宁;  赵彦立;  徐智谋
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纳米压印用二次压印模板 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201331670Y, 申请日期: 2009-10-21, 公开日期: 2009-10-21
发明人:  刘文;  王定理;  周宁;  赵彦立;  徐智谋
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纳米压印用二次压印模板的制作方法及其二次压印模板 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN101446759A, 申请日期: 2009-06-03, 公开日期: 2009-06-03
发明人:  刘文;  王定理;  周宁;  赵彦立;  徐智谋
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