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一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4:Nd3+纳米发光材料及其制备方法 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN106978179B, 申请日期: 2019-10-25, 公开日期: 2019-10-25
发明人:  王友法;  罗蕾;  戴红莲
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一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4:Nd3+纳米发光材料及其制备方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN106978179A, 申请日期: 2017-07-25, 公开日期: 2017-07-25
发明人:  王友法;  罗蕾;  戴红莲
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