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一种使用湿法刻蚀法制备GaAs微透镜的方法 专利
专利类型: 发明申请, 专利号: CN103454703A, 申请日期: 2013-12-18, 公开日期: 2013-12-18
发明人:  刘国军;  单少杰;  郝永芹;  魏志鹏;  冯源;  李特;  安宁;  周路;  罗扩郎;  陈芳;  何斌太;  刘鹏程
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