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具有抑制背反射杂光的光学次模块结构 专利
专利类型: 授权发明, 专利号: CN100367056C, 申请日期: 2008-02-06, 公开日期: 2008-02-06
发明人:  陈文宗;  杨建成;  张俊杰;  李俊德;  张志贤;  陈正大;  彭保仁
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