| 一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法 |
| 刘杰; 张耿 ; 张宏建; 刘永征; 李思远; 胡炳樑
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| 2020-06-11
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| 专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
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| 公开日期 | 2020-09-25
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明专利
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| 产权排序 | 1
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| 摘要 | 本发明涉及光谱曲线干扰的分析方法，具体涉及一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法，针对利用光谱成像技术获取目标光谱曲线时会受到干扰问题，通过对光谱曲线受干扰前后的定性分析，以达到干扰因素的消除以及干扰程度的主动控制。本发明通过计算原始光谱曲线与受干扰后光谱曲线的皮尔森相关系数，与不同干扰程度的阈值进行比较，评估光谱曲线受干扰的整体趋势；通过最小二乘法拟合直线，计算波动曲线各点与拟合直线残差的标准差，与不同波动程度的阈值进行比较，评估光谱曲线受干扰程度的局部波动，采用两次分析的结果，对光谱曲线受干扰程度进行定性分析，获得干扰源强度与干扰程度的对应关系，实现可控干扰。 |
| 申请日期 | 2020-06-11
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| 专利号 | CN202010531146.4
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 申请中
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| 公开（公告）号 | CN111709637A
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| IPC 分类号 | G06Q10/06
; G06F17/10
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/95382
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| 专题 | 光谱成像技术研究室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
刘杰,张耿,张宏建,等. 一种光谱曲线受干扰程度的定性分析方法. CN202010531146.4[P]. 2020-06-11.
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