Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究 | |
潘永刚1; 刘政1; 王奔2; 张四宝1; 吕辰瑞1 | |
作者部门 | 先进光学元件试制中心 |
2021 | |
发表期刊 | 激光与光电子学进展
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ISSN | 1006-4125 |
卷号 | 58期号:5 |
产权排序 | 1 |
摘要 | 基于电子束蒸发小面源非余弦膜厚的分布公式,研究了电子束蒸发球面夹具系统光学薄膜厚度的分布均匀性。同时建立数学模型,通过MathCAD编程求解修正挡板的形状及摆放位置,控制光学薄膜厚度的分布均匀性。以蒸发Ta_2O_5薄膜为例,优化修正挡板的位置及形状,并制备厚度为600 nm的Ta_2O_5单层薄膜。实验结果表明,采用该模型优化设计的修正挡板,实际厚度不均匀性为0.6%,验证了该模型的可行性与正确性。 |
关键词 | 薄膜 均匀性 电子束蒸发 球面夹具 修正挡板 |
收录类别 | CSCD |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:6953000 |
引用统计 | |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94947 |
专题 | 先进光学元件试制中心 |
作者单位 | 1.中国科学院西安光学精密机械研究所, 西安, 陕西 710119, 中国 2.上海米蜂激光科技有限公司, 上海 200120, 中国 |
第一作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 潘永刚,刘政,王奔,等. 电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究[J]. 激光与光电子学进展,2021,58(5). |
APA | 潘永刚,刘政,王奔,张四宝,&吕辰瑞.(2021).电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究.激光与光电子学进展,58(5). |
MLA | 潘永刚,et al."电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究".激光与光电子学进展 58.5(2021). |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究.(1291KB) | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 请求全文 |
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