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电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究
潘永刚1; 刘政1; 王奔2; 张四宝1; 吕辰瑞1
作者部门先进光学元件试制中心
2021
发表期刊激光与光电子学进展
ISSN1006-4125
卷号58期号:5
产权排序1
摘要

基于电子束蒸发小面源非余弦膜厚的分布公式,研究了电子束蒸发球面夹具系统光学薄膜厚度的分布均匀性。同时建立数学模型,通过MathCAD编程求解修正挡板的形状及摆放位置,控制光学薄膜厚度的分布均匀性。以蒸发Ta_2O_5薄膜为例,优化修正挡板的位置及形状,并制备厚度为600 nm的Ta_2O_5单层薄膜。实验结果表明,采用该模型优化设计的修正挡板,实际厚度不均匀性为0.6%,验证了该模型的可行性与正确性。

关键词薄膜 均匀性 电子束蒸发 球面夹具 修正挡板
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:6953000
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94947
专题先进光学元件试制中心
作者单位1.中国科学院西安光学精密机械研究所, 西安, 陕西 710119, 中国
2.上海米蜂激光科技有限公司, 上海 200120, 中国
第一作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
潘永刚,刘政,王奔,等. 电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究[J]. 激光与光电子学进展,2021,58(5).
APA 潘永刚,刘政,王奔,张四宝,&吕辰瑞.(2021).电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究.激光与光电子学进展,58(5).
MLA 潘永刚,et al."电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究".激光与光电子学进展 58.5(2021).
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文件名: 电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究.pdf
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