| 一种高抑制比光陷阱 |
| 陈钦芳; 薛要克; 刘阳 ; 林上民; 刘美莹; 马占鹏
|
| 2020-09-01
|
| 专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
|
| 授权国家 | 中国
|
| 专利类型 | 实用新型
|
| 产权排序 | 1
|
| 摘要 | 本实用新型提供了一种高抑制比光陷阱，解决现有光陷阱对随机入射光和平行光无针对性，入射光难以满足高精度的杂散光测试需求，成本较高的问题。该光陷阱包括底面、平行设置的两个等腰直角三角形侧面、形状相同的第一反射面和第二反射面；底面、第一反射面、第二反射面、等腰直角三角形侧面内壁材均为黑色玻璃；底面、第一反射面、第二反射面依次尾首连接形成三角柱框架；两个等腰直角三角形侧面分别位于三角柱框架两侧开口处，形成密封腔室；底面上设有通光孔，该通光孔靠近第一反射面；经通光孔进入的平行光依次经第一反射面反射、第二反射面反射至底面，经底面反射回的光线再依次经第二反射面反射、第一反射面反射后从通光孔出射。 |
| 授权日期 | 2020-09-01
|
| 申请日期 | 2019-12-24
|
| 专利号 | CN201922350822.3
|
| 语种 | 中文
|
| 专利状态 | 授权
|
| 申请号 | CN201922350822.3
|
| 公开（公告）号 | CN211402914U
|
| IPC 分类号 | G02B17/06
; G02B1/00
|
| 文献类型 | 专利
|
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94172
|
| 专题 | 空间光学技术研究室
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
陈钦芳,薛要克,刘阳,等. 一种高抑制比光陷阱. CN201922350822.3[P]. 2020-09-01.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论