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半导体激光器及其制造方法
其他题名半导体激光器及其制造方法
前田修; 增井勇志; 汐先政贵; 佐藤进; 荒木田孝博
2012-11-14
专利权人索尼公司
公开日期2012-11-14
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要一种半导体激光器及其制造方法。该半导体激光器可将激光的偏振方向稳定在一个方向上。该半导体激光器包括层叠结构,该层叠结构包括从衬底侧依次设置的下多层反射镜、有源层和上多层反射镜,其中,层叠结构包括柱形台面部,该柱形台面部包含下多层反射镜的上部、有源层和上多层反射镜,且下多层反射镜包括多对低折射率层和高折射率层以及多个氧化层,该多个氧化层在除了一个或多个低折射率层的中心区域之外的区域中非均匀地分布在围绕台面部的中心轴旋转的方向上。
其他摘要一种半导体激光器及其制造方法。该半导体激光器可将激光的偏振方向稳定在一个方向上。该半导体激光器包括层叠结构,该层叠结构包括从衬底侧依次设置的下多层反射镜、有源层和上多层反射镜,其中,层叠结构包括柱形台面部,该柱形台面部包含下多层反射镜的上部、有源层和上多层反射镜,且下多层反射镜包括多对低折射率层和高折射率层以及多个氧化层,该多个氧化层在除了一个或多个低折射率层的中心区域之外的区域中非均匀地分布在围绕台面部的中心轴旋转的方向上。
申请日期2010-03-03
专利号CN101834408B
专利状态授权
申请号CN201010130116
公开(公告)号CN101834408B
IPC 分类号H01S5/187 | H01S5/343
专利代理人彭久云
代理机构北京市柳沈律师事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/93069
专题半导体激光器专利数据库
作者单位索尼公司
推荐引用方式
GB/T 7714
前田修,增井勇志,汐先政贵,等. 半导体激光器及其制造方法. CN101834408B[P]. 2012-11-14.
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CN101834408B.PDF(6802KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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