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面发射半导体激光器及其制造方法
其他题名面发射半导体激光器及其制造方法
汐先政贵; 前田修; 荒木田孝博; 佐藤进
2011-07-27
专利权人索尼公司
公开日期2011-07-27
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要面发射半导体激光器及其制造方法。面发射半导体激光器的制造方法包括如下步骤:形成堆叠结构,该堆叠结构在基板上依次具有包括至少一层下可氧化层的下多层膜反射器、具有发光区域的有源层、包括上可氧化层的上多层膜反射器以及上层;在该上层中提供第一凹槽;以及在该堆叠结构中提供第二凹槽,该第二凹槽包括平面形状与第一凹槽重叠的部分以及与第一凹槽不重叠的部分。
其他摘要面发射半导体激光器及其制造方法。面发射半导体激光器的制造方法包括如下步骤:形成堆叠结构,该堆叠结构在基板上依次具有包括至少一层下可氧化层的下多层膜反射器、具有发光区域的有源层、包括上可氧化层的上多层膜反射器以及上层;在该上层中提供第一凹槽;以及在该堆叠结构中提供第二凹槽,该第二凹槽包括平面形状与第一凹槽重叠的部分以及与第一凹槽不重叠的部分。
申请日期2011-01-19
专利号CN102136676A
专利状态失效
申请号CN201110021124.4
公开(公告)号CN102136676A
IPC 分类号H01S5/183
专利代理人彭久云
代理机构北京市柳沈律师事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92916
专题半导体激光器专利数据库
作者单位索尼公司
推荐引用方式
GB/T 7714
汐先政贵,前田修,荒木田孝博,等. 面发射半导体激光器及其制造方法. CN102136676A[P]. 2011-07-27.
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CN102136676A.PDF(3636KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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