Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 圖形曝光方法以及圖形曝光裝置 | |
| 其他题名 | 圖形曝光方法以及圖形曝光裝置 |
| 押田良忠; 內藤芳達; 鈴木光弘; 內山文二; 山口剛 | |
| 2006-06-23 | |
| 专利权人 | 日立比亞機械股份有限公司 |
| 公开日期 | 2006-06-23 |
| 授权国家 | 中国香港 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。 |
| 其他摘要 | 本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。 |
| 申请日期 | 2006-03-02 |
| 专利号 | HK1082970A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | HK06102763 |
| 公开（公告）号 | HK1082970A |
| IPC 分类号 | G03F | G02B |
| 专利代理人 | - |
| 代理机构 | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92536 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日立比亞機械股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 押田良忠,內藤芳達,鈴木光弘,等. 圖形曝光方法以及圖形曝光裝置. HK1082970A[P]. 2006-06-23. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN1677237A.PDF（1679KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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