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化合物半导体及其制造方法以及氮化物半导体
其他题名化合物半导体及其制造方法以及氮化物半导体
藤冈洋; 上野耕平
2019-04-16
专利权人国立研究开发法人科学技术振兴机构
公开日期2019-04-16
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明的化合物半导体具有5×1019cm‑3以上的高电子浓度,显示46cm2/V·s以上的电子迁移率,且显示低电阻性,由此构成高性能的半导体器件。根据本发明,提供一种能在室温~700℃下在大面积的衬底上成膜的n型导电型13族氮化物半导体。
其他摘要本发明的化合物半导体具有5×1019cm‑3以上的高电子浓度,显示46cm2/V·s以上的电子迁移率,且显示低电阻性,由此构成高性能的半导体器件。根据本发明,提供一种能在室温~700℃下在大面积的衬底上成膜的n型导电型13族氮化物半导体。
申请日期2017-06-01
专利号CN109643645A
专利状态申请中
申请号CN201780053614.8
公开(公告)号CN109643645A
IPC 分类号H01L21/20 | C23C14/06 | C23C14/34 | H01L21/203 | H01L21/338 | H01L29/778 | H01L29/786 | H01L29/812 | H01L33/32 | H01S5/042 | H01S5/183 | H01S5/343
专利代理人石伟
代理机构北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92379
专题半导体激光器专利数据库
作者单位国立研究开发法人科学技术振兴机构
推荐引用方式
GB/T 7714
藤冈洋,上野耕平. 化合物半导体及其制造方法以及氮化物半导体. CN109643645A[P]. 2019-04-16.
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