Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
化合物半导体及其制造方法以及氮化物半导体 | |
其他题名 | 化合物半导体及其制造方法以及氮化物半导体 |
藤冈洋; 上野耕平 | |
2019-04-16 | |
专利权人 | 国立研究开发法人科学技术振兴机构 |
公开日期 | 2019-04-16 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 本发明的化合物半导体具有5×1019cm‑3以上的高电子浓度,显示46cm2/V·s以上的电子迁移率,且显示低电阻性,由此构成高性能的半导体器件。根据本发明,提供一种能在室温~700℃下在大面积的衬底上成膜的n型导电型13族氮化物半导体。 |
其他摘要 | 本发明的化合物半导体具有5×1019cm‑3以上的高电子浓度,显示46cm2/V·s以上的电子迁移率,且显示低电阻性,由此构成高性能的半导体器件。根据本发明,提供一种能在室温~700℃下在大面积的衬底上成膜的n型导电型13族氮化物半导体。 |
申请日期 | 2017-06-01 |
专利号 | CN109643645A |
专利状态 | 申请中 |
申请号 | CN201780053614.8 |
公开(公告)号 | CN109643645A |
IPC 分类号 | H01L21/20 | C23C14/06 | C23C14/34 | H01L21/203 | H01L21/338 | H01L29/778 | H01L29/786 | H01L29/812 | H01L33/32 | H01S5/042 | H01S5/183 | H01S5/343 |
专利代理人 | 石伟 |
代理机构 | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92379 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 国立研究开发法人科学技术振兴机构 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 藤冈洋,上野耕平. 化合物半导体及其制造方法以及氮化物半导体. CN109643645A[P]. 2019-04-16. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN109643645A.PDF(3779KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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