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双色单光子源结构的制备方法及制备的结构
其他题名双色单光子源结构的制备方法及制备的结构
喻颖; 李彦; 吴泽儒; 陈晓添; 余思远
2018-08-03
专利权人中山大学
公开日期2018-08-03
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提供了一种双色单光子源结构的制备方法,包括有以下步骤:S在半导体衬底上生长并制备纳米线单量子点结构;S2.对纳米线单量子点结构进行部分平整化,露出纳米线顶端的应力小岛;S3.使用机械剥离法制作二维薄膜,并将二维薄膜转移至应力小岛上,完成制备。
其他摘要本发明提供了一种双色单光子源结构的制备方法,包括有以下步骤:S在半导体衬底上生长并制备纳米线单量子点结构;S2.对纳米线单量子点结构进行部分平整化,露出纳米线顶端的应力小岛;S3.使用机械剥离法制作二维薄膜,并将二维薄膜转移至应力小岛上,完成制备。
申请日期2018-01-03
专利号CN108365517A
专利状态申请中
申请号CN201810004934.0
公开(公告)号CN108365517A
IPC 分类号H01S5/34 | B82Y20/00 | B82Y40/00
专利代理人林丽明
代理机构广州粤高专利商标代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92224
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中山大学
推荐引用方式
GB/T 7714
喻颖,李彦,吴泽儒,等. 双色单光子源结构的制备方法及制备的结构. CN108365517A[P]. 2018-08-03.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN108365517A.PDF(519KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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