Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法 | |
其他题名 | 掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法 |
吴艳华; 王飞飞; 胡发杰; 金鹏; 王占国 | |
2015-03-25 | |
专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
公开日期 | 2015-03-25 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 本发明提供了一种掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法。该掩模板包括:第一条形图案;以及辅助对准窗口,为与所述第一条形图案垂直的条形图案;其中,所述第一条形图案与辅助对准窗口均为透明图案,在曝光之前,通过所述辅助对准窗口可观察所述第一条形图案与下方半导体基体上的第二条形图案的对准情况。本发明能够借助辅助对准窗口观察第一条形图案是否与下方半导体基体上的第二条形图案对准,方便了两者位置的修正,从而达到提高对版精度和研发效率。 |
其他摘要 | 本发明提供了一种掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法。该掩模板包括:第一条形图案;以及辅助对准窗口,为与所述第一条形图案垂直的条形图案;其中,所述第一条形图案与辅助对准窗口均为透明图案,在曝光之前,通过所述辅助对准窗口可观察所述第一条形图案与下方半导体基体上的第二条形图案的对准情况。本发明能够借助辅助对准窗口观察第一条形图案是否与下方半导体基体上的第二条形图案对准,方便了两者位置的修正,从而达到提高对版精度和研发效率。 |
申请日期 | 2014-12-23 |
专利号 | CN104460223A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | CN201410815582.9 |
公开(公告)号 | CN104460223A |
IPC 分类号 | G03F1/42 | G03F9/00 | H01S5/22 |
专利代理人 | 曹玲柱 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92057 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 中国科学院半导体研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴艳华,王飞飞,胡发杰,等. 掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法. CN104460223A[P]. 2015-03-25. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN104460223A.PDF(1762KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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