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磷化铟基光电子器件中楔形腔和平行腔结构实现方法
其他题名磷化铟基光电子器件中楔形腔和平行腔结构实现方法
任晓敏; 王兴妍; 黄辉; 王琦; 黄永清
2004-09-22
专利权人北京邮电大学
公开日期2004-09-22
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及一种InP(磷化铟)基光电子器件,特别涉及此器件中的楔形腔和平行腔的实现方法。本发明特征在于利用选择性腐蚀在InP基半导体外延层上实现具有特定倾角的楔形结构,以及实现基于空气隙的平行腔结构。其中楔形结构的倾角可以通过选择不同的腐蚀液的组分比例来调节。本发明涉及的方法具有与半导体集成工艺兼容的特点,势将对今后光波与光电子器件的发展产生重要而深远的影响。
其他摘要本发明涉及一种InP(磷化铟)基光电子器件,特别涉及此器件中的楔形腔和平行腔的实现方法。本发明特征在于利用选择性腐蚀在InP基半导体外延层上实现具有特定倾角的楔形结构,以及实现基于空气隙的平行腔结构。其中楔形结构的倾角可以通过选择不同的腐蚀液的组分比例来调节。本发明涉及的方法具有与半导体集成工艺兼容的特点,势将对今后光波与光电子器件的发展产生重要而深远的影响。
申请日期2003-03-17
专利号CN1531155A
专利状态失效
申请号CN03120468.6
公开(公告)号CN1531155A
IPC 分类号C23F1/16 | H01L21/306 | H01L31/18 | H01L33/00 | H01S5/10
专利代理人周长兴
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92043
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京邮电大学
推荐引用方式
GB/T 7714
任晓敏,王兴妍,黄辉,等. 磷化铟基光电子器件中楔形腔和平行腔结构实现方法. CN1531155A[P]. 2004-09-22.
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