OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法
其他题名基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法
余学才; 肖景天; 任华西; 王晓庞
2016-08-17
专利权人电子科技大学
公开日期2016-08-17
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法;其包括半导体激光器、透镜、平行平板组、CCD相机及数据处理单元。本发明采用非平行的相关光源,通过透镜和平行平板组组成的光学系统向待测量物体投影大面积干涉条纹,并由CCD相机接收经待测量物体所调制的畸变干涉条纹阵列图像,再利用数据处理单元进行图像处理,重建待测量物体表面三维轮廓,实现对待测量物体光学轮廓测量,具有快速、非接触、高精度、大面积的特点,具有广阔的应用前景。
其他摘要本发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法;其包括半导体激光器、透镜、平行平板组、CCD相机及数据处理单元。本发明采用非平行的相关光源,通过透镜和平行平板组组成的光学系统向待测量物体投影大面积干涉条纹,并由CCD相机接收经待测量物体所调制的畸变干涉条纹阵列图像,再利用数据处理单元进行图像处理,重建待测量物体表面三维轮廓,实现对待测量物体光学轮廓测量,具有快速、非接触、高精度、大面积的特点,具有广阔的应用前景。
申请日期2016-05-23
专利号CN105865369A
专利状态授权
申请号CN201610343470.7
公开(公告)号CN105865369A
IPC 分类号G01B11/24
专利代理人周永宏 | 王伟
代理机构成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91369
专题半导体激光器专利数据库
作者单位电子科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
余学才,肖景天,任华西,等. 基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法. CN105865369A[P]. 2016-08-17.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN105865369A.PDF(210KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[余学才]的文章
[肖景天]的文章
[任华西]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[余学才]的文章
[肖景天]的文章
[任华西]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[余学才]的文章
[肖景天]的文章
[任华西]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。