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一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器
其他题名一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器
朱忠赟珅; 宋禹忻; 李耀耀; 韩奕; 张振普; 张立瑶; 王庶民
2017-08-11
专利权人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
公开日期2017-08-11
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提供了一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器,该有源区结构包括第一势垒层、Ge纳米线和第二势垒层,所述Ge纳米线位于所述第一势垒层和所述第二势垒层之间。本发明通过将现有的CMOS工艺相兼容Ge材料转化为直接带隙,克服了硅不能直接带隙以及III‑V族发光器件与现有的CMOS工艺不兼容的问题,同时也有利于单片集成,降低成本,促进光通信行业的良性发展。
其他摘要本发明提供了一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器,该有源区结构包括第一势垒层、Ge纳米线和第二势垒层,所述Ge纳米线位于所述第一势垒层和所述第二势垒层之间。本发明通过将现有的CMOS工艺相兼容Ge材料转化为直接带隙,克服了硅不能直接带隙以及III‑V族发光器件与现有的CMOS工艺不兼容的问题,同时也有利于单片集成,降低成本,促进光通信行业的良性发展。
申请日期2017-05-03
专利号CN107039884A
专利状态授权
申请号CN201710304793.X
公开(公告)号CN107039884A
IPC 分类号H01S5/34
专利代理人邓琪
代理机构上海智信专利代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90662
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海微系统与信息技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
朱忠赟珅,宋禹忻,李耀耀,等. 一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器. CN107039884A[P]. 2017-08-11.
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