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发光二极管结构及其制造方法
其他题名发光二极管结构及其制造方法
陈隆建; 简奉任
2005-01-26
专利权人璨圆光电股份有限公司
公开日期2005-01-26
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提供一种发光二极管结构,至少包括:一基板、一混合层、一第一型态半导体层,以及一第二型态半导体层。其中,混合层至少具有一粗化层用以扩散射入的光线,而粗化层是一层氮化硅材料或具有AlInGaN量子点的薄膜。此外,本发明还提供一种发光二极管的制造方法,其是在发光二极管组件的外延过程中成长至少具有一粗化层的混合层,以使得混合层具有使光线散射的功用。
其他摘要本发明提供一种发光二极管结构,至少包括:一基板、一混合层、一第一型态半导体层,以及一第二型态半导体层。其中,混合层至少具有一粗化层用以扩散射入的光线,而粗化层是一层氮化硅材料或具有AlInGaN量子点的薄膜。此外,本发明还提供一种发光二极管的制造方法,其是在发光二极管组件的外延过程中成长至少具有一粗化层的混合层,以使得混合层具有使光线散射的功用。
申请日期2003-07-24
专利号CN1571177A
专利状态失效
申请号CN03150332.2
公开(公告)号CN1571177A
IPC 分类号H01L33/00 | H01L33/04 | H01L33/32 | H01S5/00
专利代理人徐川
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90516
专题半导体激光器专利数据库
作者单位璨圆光电股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
陈隆建,简奉任. 发光二极管结构及其制造方法. CN1571177A[P]. 2005-01-26.
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