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GaN基半导体发光器件及其制造方法
其他题名GaN基半导体发光器件及其制造方法
盐谷阳平; 京野孝史; 住友隆道; 秋田胜史; 上野昌纪; 中村孝夫
2012-05-23
专利权人住友电气工业株式会社
公开日期2012-05-23
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要GaN基半导体发光器件11a包含:由GaN基半导体构成的衬底13,其具有以63度以上且小于80度的倾斜角α从c面向m轴倾斜的主面13a;GaN基半导体外延区域15;有源层17;电子阻挡层27及接触层29。有源层17由含铟的GaN基半导体构成。衬底13的位错密度为1×107cm-2以下。在具有含铟的有源层的GaN基半导体发光器件11a中,能够减轻在电流注入高的情况下的量子效率的降低。
其他摘要GaN基半导体发光器件11a包含:由GaN基半导体构成的衬底13,其具有以63度以上且小于80度的倾斜角α从c面向m轴倾斜的主面13a;GaN基半导体外延区域15;有源层17;电子阻挡层27及接触层29。有源层17由含铟的GaN基半导体构成。衬底13的位错密度为1×107cm-2以下。在具有含铟的有源层的GaN基半导体发光器件11a中,能够减轻在电流注入高的情况下的量子效率的降低。
申请日期2011-01-18
专利号CN102473805A
专利状态失效
申请号CN201180002448.1
公开(公告)号CN102473805A
IPC 分类号H01L33/32 | H01S5/343
专利代理人杨海荣 | 穆德骏
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90263
专题半导体激光器专利数据库
作者单位住友电气工业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
盐谷阳平,京野孝史,住友隆道,等. GaN基半导体发光器件及其制造方法. CN102473805A[P]. 2012-05-23.
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