Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
氮化物半导体发光器件和半导体发光器件 | |
其他题名 | 氮化物半导体发光器件和半导体发光器件 |
神川刚; 麦华路巴武吕; 伊藤茂稔 | |
2011-08-03 | |
专利权人 | 夏普株式会社 |
公开日期 | 2011-08-03 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 在一种氮化物半导体发光器件中,在n型氮化物半导体层(102,201,302,601,1201)上依次地堆叠氮化物半导体层(103,303,603,1203)、p型氮化物半导体层(104,304,604,1204)和有源层(105,305,605,1205)。在一种氮化物半导体发光器件中,在衬底(1401,1501,1601,1701)上依次地堆叠第一底层(1402,1502,1602,1702)、第二底层(1404,1504,1604,1704)、有源层(1405,1505,1605,1705)和厚度不大于40nm的上层(1406,1506,1606,1706),针对n型的第二电极(1408,1508,1608,1708)与上层(1406,1506,1606,1706)相接触的界面包含金属,所述金属的表面等离激元能够由从有源层(1405,1505,1605,1705)产生的光来激励。 |
其他摘要 | 在一种氮化物半导体发光器件中,在n型氮化物半导体层(102,201,302,601,1201)上依次地堆叠氮化物半导体层(103,303,603,1203)、p型氮化物半导体层(104,304,604,1204)和有源层(105,305,605,1205)。在一种氮化物半导体发光器件中,在衬底(1401,1501,1601,1701)上依次地堆叠第一底层(1402,1502,1602,1702)、第二底层(1404,1504,1604,1704)、有源层(1405,1505,1605,1705)和厚度不大于40nm的上层(1406,1506,1606,1706),针对n型的第二电极(1408,1508,1608,1708)与上层(1406,1506,1606,1706)相接触的界面包含金属,所述金属的表面等离激元能够由从有源层(1405,1505,1605,1705)产生的光来激励。 |
申请日期 | 2009-09-03 |
专利号 | CN102144342A |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN200980134707.9 |
公开(公告)号 | CN102144342A |
IPC 分类号 | H01L33/00 | H01S5/343 |
专利代理人 | 王波波 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90227 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 夏普株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 神川刚,麦华路巴武吕,伊藤茂稔. 氮化物半导体发光器件和半导体发光器件. CN102144342A[P]. 2011-08-03. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN102144342A.PDF(2533KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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