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Semiconductor laser and its liquid phase epitaxial crystal growth method
其他题名Semiconductor laser and its liquid phase epitaxial crystal growth method
TAKANASHI YOSHIFUMI; HORIKOSHI YOSHIHARU; FURUKAWA YOSHITAKA
1977-11-25
专利权人NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE
公开日期1977-11-25
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To grow a thin film free from pinholes over the entire surface of wafers by adding a small volume of Mg or Tl to a GaAs growing solution composed of Ga and As or AlxGa1-xAs growing solution composed of GaAs and Al.
其他摘要目的:通过向由Ga和As构成的GaAs生长溶液和由GaAs和Al组成的AlxGa1-xAs生长溶液中添加少量的Mg或Tl,在晶片的整个表面上生长没有针孔的薄膜。
申请日期1976-05-20
专利号JP1977141187A
专利状态失效
申请号JP1976057204
公开(公告)号JP1977141187A
IPC 分类号H01L21/208 | H01L33/30 | H01L33/36 | H01S5/00 | H01S5/042 | H01L33/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89813
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON TELEGRAPH & TELEPHONE
推荐引用方式
GB/T 7714
TAKANASHI YOSHIFUMI,HORIKOSHI YOSHIHARU,FURUKAWA YOSHITAKA. Semiconductor laser and its liquid phase epitaxial crystal growth method. JP1977141187A[P]. 1977-11-25.
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JP1981028390B2.PDF(140KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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