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半導体装置
其他题名半導体装置
松下 保彦
1996-11-22
专利权人三洋電機株式会社
公开日期1996-11-22
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 下地層が導電性およびへき開性を有し、かつGaN、AlNもしくはInNまたはこれらの混晶からなる成長層が下地層とほぼ完全に格子整合した半導体装置を提供することである。 【構成】 Alが添加されたp型6H-SiC基板10を用いる。p型6H-SiC基板10の{0001}面上に、p型GaN層21、p型AlGaNクラッド層22、n型InGaN発光層23、n型AlGaNクラッド層24およびn型GaN層25を順に含むGaN成長層20をエピタキシャル成長させる。
其他摘要目的:提供一种基层具有导电性和解理性能的半导体器件,以及由GaN,AlN或InN晶体或这些GaN,AlN和InN晶体的混晶组成的生长层,几乎完全成为lattic与基础层匹配。组成:使用p型Al掺杂的6H-SiC衬底10。GaN生长后20,其依次包含p型GaN层21,p型AlGaN包层22,n型InGaN发光层23,n型AlGaN包层24和n型GaN层25外延生长在基板10的面0001'上。
申请日期1995-05-09
专利号JP1996306958A
专利状态失效
申请号JP1995110887
公开(公告)号JP1996306958A
IPC 分类号H01L33/34 | H01S5/323 | H01L33/16 | H01L33/32 | H01S5/00 | H01L33/00 | H01S3/18
专利代理人福島 祥人
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88696
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
松下 保彦. 半導体装置. JP1996306958A[P]. 1996-11-22.
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