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其他题名-
SHIBUYA TAKAO; SHIMIZU JUICHI; WADA MASARU; TERAMOTO ITSUKI; HAMADA TAKESHI; ITO KUNIO
1993-08-20
专利权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
公开日期1993-08-20
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要PURPOSE:To form a vertical cavity mirror surface at a junction, by specifying the difference between the mixed crystal ratio (x) of a Ga1-xAlxAs cld layer on an active layer and the mixed crystal ratio (z) of a Ga1-zAlzAs layer formed on the clad layer through a GaAs layer, and effecting chemical etching through a mask. CONSTITUTION:An N type Ga1-xAlxAs (0
其他摘要目的:通过指定有源层上Ga1-xAlxAs cld层的混晶比(x)与Ga1-zAlzAs层的混晶比(z)之间的差,在结处形成垂直腔镜面通过GaAs层在包层上形成,并通过掩模进行化学蚀刻。组成:N型Ga1-xAlxAs(0
申请日期1984-07-31
专利号JP1993056675B2
专利状态失效
申请号JP1984161717
公开(公告)号JP1993056675B2
IPC 分类号H01S | H01L | H01L21/308 | H01L21/306 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88695
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
SHIBUYA TAKAO,SHIMIZU JUICHI,WADA MASARU,et al. -. JP1993056675B2[P]. 1993-08-20.
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