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Semiconductor laser
其他题名Semiconductor laser
NUMAI TAKAAKI
1989-03-28
专利权人日本電気株式会社
公开日期1989-03-28
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To form a semiconductor laser which operates in a stable single axial mode to be able to modulate at a high speed with low threshold and high efficiency by forming a groove by etching between a window region and a region except the window region, and forming an insulating layer by proton or ion implanting. CONSTITUTION:A lambda/4 shift diffraction grating having 2400Angstrom of period is formed by an interference exposure method employing a phase shifting film on an N-type InP substrate 110. Then, in a first LPE growth, a nondoped InGaAsP optical guide layer 120, an N-type InP buffer layer 130, a nondoped active layer 140, and a P-type InP clad layer 150 are sequentially grown. Then, after it is etched to form a buried structure and a window structure, a buried growth is conducted by second LPE growth, thereby forming a window structure. Eventually, after electrodes are formed on a substrate side and a grown layer side, a groove 500 is formed except the vicinity of a central mesa between the region 100 and an active region 200. Thereafter, SiNx films 300 are formed on both end faces.
其他摘要目的:通过在窗口区域和窗口区域以外的区域之间形成凹槽,形成半导体激光器,以稳定的单轴模式工作,能够以低阈值和高效率高速调制,并形成通过质子或离子注入的绝缘层。组成:通过在N型InP基板110上采用相移膜的干涉曝光方法形成具有2400埃周期的λ/ 4偏移衍射光栅。然后,在第一LPE生长中,未掺杂的InGaAsP光导层120,依次生长N型InP缓冲层130,非掺杂有源层140和P型InP包覆层150。然后,在蚀刻以形成掩埋结构和窗口结构之后,通过第二LPE生长进行掩埋生长,从而形成窗口结构。最后,在基板侧和生长层侧上形成电极之后,形成除了区域100和有源区200之间的中央台面附近之外的沟槽500.之后,在两个端面上形成SiNx膜300。
申请日期1987-09-25
专利号JP1989082687A
专利状态失效
申请号JP1987242124
公开(公告)号JP1989082687A
IPC 分类号H01S3/02 | H01S3/06 | H01S3/08 | H01S3/098 | H01S5/00 | H01S5/02 | H01S5/10 | H01S5/12 | H01S5/16 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88165
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
NUMAI TAKAAKI. Semiconductor laser. JP1989082687A[P]. 1989-03-28.
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