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반도체 레이저 장치의 제조 방법
其他题名반도체 레이저 장치의 제조 방법
미야치마모루; 기무라요시노리; 지쿠마기요후미
2006-12-13
专利权人파이오니아 가부시키가이샤
公开日期2006-12-13
授权国家韩国
专利类型发明申请
摘要The manufacturing method of the multi-wavelength semiconductor laser device with an excellent mass producibility etc is provided. Second center production forming the second laser tube (2a) and the bonding layer which grooves and which is adjacent to that comprising the metal are made with first center production forming the first laser tube (1a) and the metal adhesive layer comprising the multilayered structure in the semiconductor substrate (SUB1), and the multilayered structure called the miniature than the first laser tube (1a) on the bearing substrate. Waveguides (1b, 2b) are neared and the bonding layer among of first and second center production is welded and the bonding layer among is *** bonding layer (CNT) generated. In that way after first and second laser tubes (1a, 2a) are fixed the bearing substrate is peeled off in the second laser tube (2a). In that way the bonding layer (CNT) is partly exposed. The semiconductor laser device (LD) having the exposed bonding layer (CNT) as the common electrode is manufactured.
其他摘要提供了具有优异的批量生产性等的多波长半导体激光器件的制造方法。形成第二激光管(2a)的第二中心生产和与包括金属的凹槽相邻的凹槽的粘合层通过形成第一激光管(1a)的第一中心生产和包括多层结构的金属粘合层制成。半导体衬底(SUB1)和被称为微型结构的多层结构比轴承衬底上的第一激光管(1a)小。接近波导(1b,2b),焊接第一和第二中心生产中的粘合层,并且生成粘合层(CNT)。以这种方式,在固定第一和第二激光管(1a,2a)之后,在第二激光管(2a)中剥离轴承基板。以这种方式,粘合层(CNT)部分地暴露。制造具有暴露的接合层(CNT)作为公共电极的半导体激光器件(LD)。
申请日期2004-09-27
专利号KR1020060127845A
专利状态失效
申请号KR1020067005419
公开(公告)号KR1020060127845A
IPC 分类号H01S5/22 | H01S5/00 | H01S5/02 | H01S5/042 | H01S5/40
专利代理人SONG SEUNG PIL
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87614
专题半导体激光器专利数据库
作者单位파이오니아 가부시키가이샤
推荐引用方式
GB/T 7714
미야치마모루,기무라요시노리,지쿠마기요후미. 반도체 레이저 장치의 제조 방법. KR1020060127845A[P]. 2006-12-13.
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