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半導体レーザ
其他题名半導体レーザ
加藤 久弥; 久野 裕也; 冨田 一義; 加納 浩之
1995-06-02
专利权人NIPPONDENSO CO LTD
公开日期1995-06-02
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 高温作動時において活性層内の電子がpクラッド層内にオーバフローすることを抑制するとともに、発光強度分布の対称性を保つことができる半導体レーザを提供することにある。 【構成】 n-GaAs基板1上に、n-AlGaAsクラッド層2、多重量子障壁活性層5、p-AlGaAsクラッド層6、p+ -GaAsコンタクト層7が順に積層されている。多重量子障壁活性層5は、i-GaAs活性層3と多重量子障壁層4とi-GaAs活性層3との積層構造からなる。この多重量子障壁層4は、i-AlGaAs障壁層4aとi-GaAs井戸層4bがこの順に交互に合計7層積層されたものである。i-AlGaAs障壁層4aはi-GaAs活性層3よりバンドギャップが大きく、i-GaAs井戸層4bは障壁層4aよりバンドギャップが小さい。
其他摘要目的:提供一种半导体激光器,其中可以抑制有源层中的电子溢出到p型包层中,并且可以保持发光强度分布对称。组成:在n型GaAs衬底1上依次建立n型AlGaAs包层2,多量子势垒有源层5,p型AlGaAs包层6和p +型GaAs接触层7多量子势垒有源层5具有由i型GaAs有源层3,多量子势垒层4和i型GaAs有源层3组成的多层结构。多量子势垒层4由i-组成。形成七层结构的AlGaAs势垒层4a和i型GaAs阱层4b形成七层结构i型AlGaAs势垒层4a的带隙大于i型GaAs有源层的带隙如图3所示,i型GaAs阱层4b的带隙小于阻挡层4a的带隙。
申请日期1993-11-17
专利号JP1995142810A
专利状态失效
申请号JP1993288464
公开(公告)号JP1995142810A
IPC 分类号H01S5/042 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人恩田 博宣
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87262
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPONDENSO CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
加藤 久弥,久野 裕也,冨田 一義,等. 半導体レーザ. JP1995142810A[P]. 1995-06-02.
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JP1995142810A.PDF(35KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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