Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器 | |
其他题名 | 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器 |
张建伟; 宁永强; 秦莉; 刘云; 曾玉刚; 王立军 | |
2012-07-25 | |
专利权人 | 苏州长光华芯光电技术有限公司 |
公开日期 | 2012-07-25 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器,属于半导体激光器技术领域,为解决现有的垂直腔面发射半导体激光器光场在P型DBR一侧的高损耗、激光器的转换效率受到限制的问题,本发明提供高效率非对称光场分布的垂直腔面发射半导体激光器,该激光器由下至上依次为N面电极、N型衬底、N型缓冲层、N型分段DBR、有源区、氧化限制层、P型分段DBR、P型盖层和P面电极;所述N型分段DBR在靠近有源区的前6-8对N型DBR的高、低折射率材料对的折射率差小于后面的高、低折射率材料对的折射率差;P型分段DBR在靠近有源区的前6-8对P型DBR的高、低折射率材料对的折射率差大于后面的高、低折射率材料对的折射率差。本发明电光转换效率高具有广泛的应用前景。 |
其他摘要 | 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器,属于半导体激光器技术领域,为解决现有的垂直腔面发射半导体激光器光场在P型DBR一侧的高损耗、激光器的转换效率受到限制的问题,本发明提供高效率非对称光场分布的垂直腔面发射半导体激光器,该激光器由下至上依次为N面电极、N型衬底、N型缓冲层、N型分段DBR、有源区、氧化限制层、P型分段DBR、P型盖层和P面电极;所述N型分段DBR在靠近有源区的前6-8对N型DBR的高、低折射率材料对的折射率差小于后面的高、低折射率材料对的折射率差;P型分段DBR在靠近有源区的前6-8对P型DBR的高、低折射率材料对的折射率差大于后面的高、低折射率材料对的折射率差。本发明电光转换效率高具有广泛的应用前景。 |
申请日期 | 2012-03-23 |
专利号 | CN102611000A |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN201210079120.6 |
公开(公告)号 | CN102611000A |
IPC 分类号 | H01S5/183 | H01S5/323 |
专利代理人 | 南小平 |
代理机构 | 长春菁华专利商标代理事务所 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86319 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 苏州长光华芯光电技术有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张建伟,宁永强,秦莉,等. 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器. CN102611000A[P]. 2012-07-25. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN102611000A.PDF(634KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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