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高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器
其他题名高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器
张建伟; 宁永强; 秦莉; 刘云; 曾玉刚; 王立军
2012-07-25
专利权人苏州长光华芯光电技术有限公司
公开日期2012-07-25
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器,属于半导体激光器技术领域,为解决现有的垂直腔面发射半导体激光器光场在P型DBR一侧的高损耗、激光器的转换效率受到限制的问题,本发明提供高效率非对称光场分布的垂直腔面发射半导体激光器,该激光器由下至上依次为N面电极、N型衬底、N型缓冲层、N型分段DBR、有源区、氧化限制层、P型分段DBR、P型盖层和P面电极;所述N型分段DBR在靠近有源区的前6-8对N型DBR的高、低折射率材料对的折射率差小于后面的高、低折射率材料对的折射率差;P型分段DBR在靠近有源区的前6-8对P型DBR的高、低折射率材料对的折射率差大于后面的高、低折射率材料对的折射率差。本发明电光转换效率高具有广泛的应用前景。
其他摘要高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器,属于半导体激光器技术领域,为解决现有的垂直腔面发射半导体激光器光场在P型DBR一侧的高损耗、激光器的转换效率受到限制的问题,本发明提供高效率非对称光场分布的垂直腔面发射半导体激光器,该激光器由下至上依次为N面电极、N型衬底、N型缓冲层、N型分段DBR、有源区、氧化限制层、P型分段DBR、P型盖层和P面电极;所述N型分段DBR在靠近有源区的前6-8对N型DBR的高、低折射率材料对的折射率差小于后面的高、低折射率材料对的折射率差;P型分段DBR在靠近有源区的前6-8对P型DBR的高、低折射率材料对的折射率差大于后面的高、低折射率材料对的折射率差。本发明电光转换效率高具有广泛的应用前景。
申请日期2012-03-23
专利号CN102611000A
专利状态授权
申请号CN201210079120.6
公开(公告)号CN102611000A
IPC 分类号H01S5/183 | H01S5/323
专利代理人南小平
代理机构长春菁华专利商标代理事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86319
专题半导体激光器专利数据库
作者单位苏州长光华芯光电技术有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
张建伟,宁永强,秦莉,等. 高效率非对称光场分布垂直腔面发射半导体激光器. CN102611000A[P]. 2012-07-25.
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